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        中導光電設備股份有限公司
         
         
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        中導光電首臺納米級有圖形晶圓缺陷檢測設備出機客戶

               日前,由中導光電設備股份有限公司(簡稱“中導光電”)研發制造的“納米級有圖形晶圓缺陷檢測設備”NanoPro-150運交客戶工廠。該客戶由國內半導體芯片制造業巨匠加盟指導,是國內IGBT制造領域的知名企業。

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               據悉,中導光電的NanoPro-1XX產品系列最高靈敏度達100nm,適用于半導體芯片0.13μm-0.18μm及以上制造工藝需求。

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               該產品系列除與國際頂尖公司同類產品在靈敏度、檢出速度(Throughput)等主要性能參數相似外,還具有多項技術創新和特點:
               一是,集“亮場/Bright Field”和“暗場/Dark Field”于一體,既保證了對光刻、刻蝕等關鍵制程的檢測要求,也提供了對鍍膜、CMP等制程以及裸片的經濟高效檢測方案,極大地拓展了設備的應用場景,降低了設備的使用成本(COO);
               二是,采用“多通道成像(MCI)技術”,提高了設備對不同“被檢測材料/物體”的檢測靈敏度,并解決了“膜色變化/Color Variation”對檢測的干擾;
               三是,使用“動態影像解析度擴展(HDR)”技術,更好地解決了“金屬-非金屬”混合表面“明暗反差”問題;
               四是,根據客戶需求,該設備可兼容兩種不同的晶圓尺寸,如8英寸與12英寸、6英寸與8英寸、5英寸與6英寸等,拓展了設備使用范圍;
               五是,集成了大量先進的圖像識別與人工智能軟件技術,且能夠與國際半導體制造業通用軟件系統和信息交換系統相匹配。  

               與“無圖形晶圓缺陷檢測設備”相比較,“有圖形晶圓缺陷檢測設備”技術難度大幅提升,運用范圍更廣,產品的經濟價值和市場空間也是“無圖形晶圓缺陷檢測設備”的數倍。據了解,此次交付的NanoPro-150機型是國內半導體前道制程有圖形檢測設備國產化的一次突破。
               中導光電是一家半導體工業前道制程高端缺陷檢測設備研發和產業化的專業公司。中導光電于成立以來的16年內,在平板顯示(FPD)等工業領域,銷售各種亞微米(≥0.5μm)“有圖形”檢測設備近300臺。公司曾承擔國家“863計劃”科研項目、工信部科研項目、省市科研項目數十項,積累了豐富的半導體高端檢測設備研發與產業化經驗,是半導體工業前道制程高端缺陷檢測領域的關鍵國產替代供應商。

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               中導光電的NanoPro-2XX系列產品,最高靈敏度達70nm左右,適用于60nm-90nm半導體工藝;其NanoPro-3XX系列產品,最高靈敏度達40nm左右,適用于45nm-60nm半導體工藝。NanoPro-2XX系列產品將于明年接受客戶訂單,NanoPro-3XX也將隨后完成研發,接受客戶評估。中導光電目前進入銷售和量產的NanoPro-1XX系列產品和MDI亞微米檢測設備,加上NanoPro-2XX和NanoPro-3XX將先后進入市場,可覆蓋國內半導體前道檢測設備需求市場的90%以上,給中國半導體工業檢測設備的國產化帶來曙光。


         

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